谷佳伦，获国家自然科学基金优秀青年科学基金项目(海外)，2020年在清华大学获得博士学位；2019年至2020年在香港城市大学交流学习；随后在香港城市大学开展博士后研究工作（香港ITF资助）。曾获得清华大学优秀博士学位论文（入选率约7%），所发明的图灵催化剂荣获了第49届日内瓦国际发明展金奖与第8届中国（上海）国际发明创新展览会金奖。近年发表学术论文26篇，获授权/申请中国专利2项，美国专利2项。其中以第一作者、共同第一作者身份发表论文12篇，包括Chemical Reviews (IF: 55.8), Journal of the American Chemical Society (IF: 15.7), Nature Communications (IF: 15.7), Advanced Functional Materials (IF: 19.0)，Corrosion Science (IF: 8.5)等。关于低维金属中多形态图灵结构的可控生长获得了诸多机构和中外媒体的邀稿报道，包括广东院士联合会、国家科技图书文献中心、DeepTech中国、麻省理工科技评论、Phys.org、Science Daily、Engineers Ireland等。研究方向为通过物理气相沉积的方法开发低维金属大面积制备与量产技术，并以实验与密度泛函理论模拟结合的方法，探究相构型、晶体缺陷、应力/应变与材料性能的关联。代表性成果包括：1. 提出一种新的材料设计理念—图灵结构，利用相构型大幅提高低维纳米材料的结构稳定性，通过气相共沉积策略，开发具备高孪晶密度的图灵结构金属催化剂，提高低维金属制备的可控性与电催化应用潜力；2. 设计了超薄金属的选择性刻蚀实现图灵结构化的方法，引入高密度孪晶激活纳米金属，将铂族金属的催化活性提高一个数量级；3. 设计了“薄带-穿透”法研究金属钝化膜特性的思路，首次在实验上确定多组元无序合金腐蚀钝化膜的原子结构。